靶材的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關。不斷研發滿足薄膜性能要求的新型靶材發展。經過多年的科技攻關和產業化應用，目前國內高純濺射靶材生產企業已經逐漸掌握關鍵技術門檻，結束了零的局面，生產能力，可以預見未來會達到高速發展時期。

隨著消費電子等終端應用的飛速發展，高純度濺射靶材的市場銷售額日益擴大。中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。研究用大量不同的沉積技術用來沉積生長各種薄膜。其中靶材是制作薄膜的關鍵，靶材品質的好壞對薄膜的意義重大。磁控膜玻璃出現脫膜現象幾大原因：原片存放因素，玻璃表面越新鮮，表面活性越大，與膜層的結合力越強，反之則差。使用存放期過長的玻璃，由于玻璃表面霉變和附著的污物會大量增加。

磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車玻璃工業、薄膜太陽能工業、平面顯示工業、裝飾/功能鍍膜工業。隨著國內靶材行業研發的投入和發展，國內已有靶材供應商、制造商的生產出來的靶材達到了進口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個研制最長、最厚旋轉靶材的制造商，隨著研發的持續投入，國內靶材行業的未來值得期待。磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率

平面靶材主要產品目錄 Planar Target List

1. 鉻靶（Cr Target）

2. 硅靶（Si Target）

3. 鈦靶（Ti Target ）

4. 石墨靶（C Target）

5. 銀靶（ Ag Target）

6. 銅靶（ Cu Target）

7. 鈦鋁合金靶（TiAl Alloy Target）

8. 鎳鉻合金靶（NiCr Alloy Target）

9. 氧化鈦靶（TiOx Target）

10. 鉬鈮靶 （MoNb Target)

11. 鋁釹靶 （AlNd Target)

12. 氧化鈮靶 (NbOx Target）

13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target)

14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target )

15. 鉬靶 (Mo Target)

主營行業：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
員工人數：200-500人 廠房面積： 年營業額：
年進口額： 年出口額： 主要市場：
客戶群：
公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

主營產品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
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