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清遠濺射靶材 鋁合金濺射靶材 鋁合金靶材 濺射靶材
基本信息
大部分國家半導體銷售額保持平穩發展,大部分國家市場增速超預期,特別是存儲器市場,一方面,存儲芯片需求旺盛,產品價格大幅上漲,另一方面,在AI、智能駕駛、5G、VR/AR等需求持續帶動下,銷售額增速較快。2017~2020是晶圓廠投資的高峰期,大部分國家新增半導體產線六十多條,其中位于中國大數的42%。在這樣的產業背景下,大部分國家對于晶圓的需求量將不斷提升。據SEMI預測,未來兩年,大部分國家晶圓出貨量將從2017年的11448百萬平方英寸上升到2019年的12235百萬平方英寸.年復合增長率為3.38%;诖,2018年大部分國家晶圓制造用靶材的市場增速可達19%,封測用靶材增速更高,將達到26%。我國國內的靶材市場需求也會大幅增加。同時,隨著國內濺射靶材技術的不斷成熟,再加上其先天的性價比優勢。
ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導體Si上形成勢壘作為SIS結的一層以及抗反射層。大部分國家的銦礦資源集中分布在中國、玻利維亞、俄羅斯等國。日韓美是重要的銦消費國,也是我國原生銦的主要****國。大部分國家高純濺射靶材市場規模將超過160億美元,年復合增長率達13%。近年來,磁控濺射靶材是國家鼓勵和發展的新材料產業。對于ITO靶材,我國有銦資源優勢,但是一直處于技術弱勢地位,國際高等ITO靶材由JX日礦日石金屬、日本三井礦業、日本東曹、韓國三星、德國及美國的少數幾家公司所壟斷。銦是中國在儲量上占據較好優勢的資源。雖然國內銦儲存量豐富。元器件及材料的生產對于貨品靶材面板顯示產業的基礎環節。所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材,其性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關。
氣體冷噴涂是一種增材制造工藝,其中金屬粉末被加速到超音速以粘附到材料表面。在眾多靶材制備技術中,熱噴涂技術可以快速、、大面積、大批量地制備氧化鈦靶材,且得到的靶材力學性能良好,噴涂成本較為低廉,因而使熱噴涂氧化鈦靶材的應用更具前景。目前,制備氧化鈦靶材的常用方法主要有:溶膠凝膠法、絲網印刷法、噴霧熱分解法、化學氣相沉積、物理-氣相沉積、熱噴涂等。相比于上述幾種常用的靶材制備方法,熱噴涂方法具有沉積效率高,生產成本低,受基體限制小,可用于大規模的工業化生產等優勢。其顯微硬度略高于LPPS和CGDS制備的Ti靶材。(3)SAPS制備的Ti靶材的沉積效率平均為52%,并選用粒徑范圍更小和球型度更好的粉末應可進一步提高沉積效率。
什么是靶中毒現象(1)正離子堆積:靶中毒時,靶面形成一層絕緣膜,正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋,不能直接進入陰極靶面,而是堆積在靶面上,容易產生冷場致弧光放電---打弧,使陰極濺射無法進行下去。、(2)陽極消失:靶中毒時,接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達陽極的電子無法進入陽極,形成陽極消失現象。靶中毒的物理解釋(1)一般情況下,金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高,靶中毒后,靶材表面都是金屬化合物,在受到離子轟擊之后,釋放的二次電子數量增加,提高了空間的導通能力磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。
半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,制造材料包括硅片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學品、電子氣體、CMP拋光材料、以及靶材等;(39%)、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在國內占據了大部分中等和要求不高的靶材市場份額。國內靶材公司的發展趨勢如何?目前大部分國家高等靶材市場主要分布于韓國、中國、日本,主要供應商在日本,韓國。中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸,但處于快速增長之中日本企業在硅晶圓、合成半導體晶圓、光罩、光刻膠、靶材料、保護涂膜、引線架、陶瓷板、塑料板、TAB(捲帶式自動接合)、COF(薄膜復晶)、焊線、封裝材料等14種重要材料方面均占有50%以上的份額。
濺射靶材行業迅速增長,市場集中度較高PVD技術已成為目前主流鍍膜方法。國內靶材生產企業發展迅速。濺射靶材為目前市場應用量較大的PVD鍍膜材料。大部分國家濺射靶材市場未來穩定增長,2020年將達200億美元。濺射靶材主要應用在平板顯示、光伏電池、半導體等領域。半導體是對靶材組成、結構和性能要求較高的領域。電子靶材新材料:鉬鈀材、ITO靶材國產加速替代****。靶材主要用于PVD鍍膜,廣泛應用于顯示、芯片、存儲、光伏和工業等領域。按照2020年國內液晶面板產能,鉬靶材和ITO靶材需求分別為2,163噸和1,375噸,對應市場分別為9.12億元和27.36元。鉬靶材已經國產并大規模替代。ITO則仍高度依賴********。大部分國家靶材市場主要由日美公司所掌控,市場集中度較高。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
廣州市尤特新材料有限公司(以下簡稱“尤特”),成立于2003年,位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業、節能綠色環保產業、新材料新技術開發和應用的重要高新技術企業。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點,經過10多年的開拓與發展,產業技術不斷迭代與升級,尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大,其中主要包括:真空鍍膜靶材;環保(UV/水性)材料;觸控顯示材料;印刷技術及材料;信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環保、美生活”企業使命。尤特遵循科學體系管理,先后通過《質量管理體系》、《環境管理體系》、《職業健康與安全管理體系》認證并有效運行,產品符合全部環境及安全標準;獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發及技術創新,先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制,并承擔多項省市立項的科研項目,公司目前已擁有幾十項自主研發新興材料及工藝的知識產權,是廣州市扶持科技型要點培育上市企業。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽:如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業、廣東省雇主責任示范企業、廣州市安全生產標準化達標企業、廣州市工程技術研發中心、廣州科技小巨人企業、地方納稅企業”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創造價值,分享價值“的核心價值觀,借鑒以往成功管理運營經驗,持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場,不斷拓寬市場應用領域,做優做強鍍膜材料產業,將公司打造為--磁控濺射靶材行業者。
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