氧化鎂靶材

純度：99.99%

分子式：MgO

分子量：40.3

熔點：2852℃

沸點：3600℃

CAS號：1309-48-4

密度：3.58

外觀：白色

硬度：6.0-6.5

在10ˉ4真空下蒸發溫度為：1500℃

溶 解 于：強酸，不溶于水和乙醇

透明波段：200-8000nm

折射率(波長/nm)：1.85(220) 1.7(500)

性能：有高度耐火絕緣性能，高溫下具有優良的耐酸堿性和電絕緣性，光透過性好，導熱性高，線膨脹系數大；加熱蒸發制備的MgO薄膜在可見區為無吸收膜，基片加熱。

應用：多層膜

公司簡介 Company Introduction北京金源新材科技有限公司是一家以研發、生產、銷售各類高 新材料為主的企業，公司在新材料行業技術先進，注重技術創新，公司秉承“誠信 務實，追求卓越”的企業精神，以“服務于 PVD 鍍膜材料”為宗旨。 主要產品包括高純金屬材料、磁控濺射靶材、真空蒸發鍍膜材料、 稀土材料等，產品廣泛應用于航空航天、太陽能光伏企業、光學鍍膜、半導體集成 電路、平板顯示、記錄介質、表面涂層等領域。銷售部:13520577626/15210523788 QQ:2324865248 郵箱: sales@ginsrc.com

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