按照現行國家標準規定，采用磁控濺射法生產的Low-E鍍膜玻璃輻射率e應小于0.15。目前市場上單銀Low-E鍍膜玻璃的e在0.07~0.12，而雙銀Low-E鍍膜玻璃的輻射率e則能夠控制在0.05以下。Low-E鍍膜玻璃的輻射率e與膜層材料的電導率s有如下關系：

　　從上面關系式中，可以看出膜層材料的輻射率與膜層電導率成反比關系，即膜層電導率越高，膜層的輻射率就越低；而膜層的電導率又主要取決于膜層中功能層金屬材料的類別和厚度。雙銀Low-E鍍膜玻璃因鍍了2層Ag，且Ag的總厚度要厚于普通單銀，使膜層有了更高的電導率、更低的輻射率；同時，因為使用了2層Ag，使得雙銀膜系結構變得更為復雜，在開發雙銀膜系時，合理布置膜層結構變得非常關鍵。正是因為雙銀膜系的膜層數量多，并且各個膜層對鍍膜玻璃的玻璃面顏色、膜面顏色、可見光透過率及顏色影響程度不同，所以，為了使較終產品具有穩定的性能和生產重復性，開發雙銀膜系的過程，一定要對各個單層的厚度和均勻性足夠重視。

　　從圖1中，可以看到1套雙銀膜系包括了9個功能結構層在內的9層至10多層膜層。不同功能結構層可選用的材料不同，例如，介質層可以選用：SiNx、TiOx、ZnSnOx、SnOx、AZO、ZnAlOx等，保護層可以選擇NiCr及其氧化物、Cr、Ti及其氧化物等。在多種膜層材料中，也可以選擇一種材料和其它幾種材料的組合。所以，如何選擇每個功能結構層的材料至關重要，涉及諸多選擇因素，如：材料的折射率、密度、硬度，對可見光、紅外線的選擇吸收性、反射性，材料的膨脹系數，材料的導電性，不同材料的附著力等。
　　
　　2.3開發流程
　　
　　雙銀Low-E膜系的開發過程是一個很系統的過程，這個過程的每個階段有不同的工作要點，每個階段要注意一些原始數據的記錄積累和分析，逐步建立起適合于生產體系的數據庫系統，在需要做生產工藝調整和變動過程中，關注關鍵參數的變化趨勢及其規律性，才能形成生產規范并有效指導穩定生產，只有實現穩定生產，才能有穩定的產品質量，實現提升產品成品率和降低成本的目標。另外，完整的開發過程不僅包括所開發膜系產品的實現，還應包括為幕墻公司和下游玻璃深加工企業提供必要的應用參數和后續加工指導。下游玻璃深加工廠是雙銀Low-E鍍膜玻璃產品的直接使用者，雙銀Low-E鍍膜玻璃的可加工性將在這些工廠里得到檢驗。因此，在開發雙銀Low-E產品的過程中，要不斷模擬和驗證所開發的雙銀Low-E鍍膜玻璃在切割、磨邊、鋼化、廠房環境暴露等情況下，自身的保護層所提供的保護性是否可靠。據筆者經驗和已有數據分析認為：介質保護層厚度和金屬保護層厚度的配比對雙銀Low-E的可加工性有明顯的影響。具體開發流程詳見圖2。

　　針對圖2中的流程，應注意以下問題：
　　
　　（1）明確目標參數。目標參數包括雙銀Low-E鍍膜玻璃的可見光透過率T、透過顏色at、bt，玻面反射率Rg、玻面顏色ag、bg，膜面反射率Rf、膜面顏色af、bf，膜層面電阻，電導率，玻璃面色差DE。一般情況下，DT±1％、DRg±1％、Dag±0.8％、Dbg±0.8％、Dat±0.8％、Dbt±0.8％。雙銀Low-E鍍膜玻璃的非膜面色差DE要滿足現行國家標準規定。