科研實驗專項使用 二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

二氧化硅（SiO2）常溫下為固體，不溶于水，是酸性氧化物，不跟一般酸反應，但溶于氫氟酸及熱濃磷酸，能和熔融堿類起作用。自然界中存在有結晶二氧化硅和無定形二氧化硅兩種。結晶二氧化硅因晶體結構不同，分為石英、鱗石英和方石英三種。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。

產品參數

中文名 二氧化硅 化學式 SiO2 熔點 1650±50℃

分子量 60.084 密度2.2 g/cm3 沸 點 2230℃

純度 99.99%

支持合金靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！

服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！

產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備

質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢驗手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢驗→包裝出庫

北京晶邁中科材料技術有限公司創建于2016年,是國內有色金屬行業綜合性研究開發公司。 現有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內的技術，多年來一直有經驗從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發與生產。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等，也可根據您的要求量身定做。通過嚴格控制生產、并持續改進、穩步發展，致力為客戶提供的產品。 公司現有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區熔裝置，CVD（化學氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產研發設備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區域熔煉；電解；化學氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品，產品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業鍍膜、新能源企業當中。 自有設備：真空熱壓爐，真空中頻感應熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結爐，真空蒸餾爐，定向凝固，區域熔煉爐，多溫區加熱爐，單晶爐，高溫燒結爐，單溫區，雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。 北京晶邁中科材料技術有限公司幾年來已先后與國內幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長期友好的合作關系，并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目，并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業擁有良好的聲譽。

二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材