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離線鍍膜玻璃出現問題之暗道

【中玻網】暗道是指從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區域，可見程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。　　暗道的產生的原因及解決方式如下：　　（1）由于鍍膜時其中一個或多個陰較產生電弧或跳閘引起�！　〗鉀Q方式：避免電弧和保證電源、陰較正常工作，防止暗道的產生。　�。�2）傳動問題。指的是在生產中傳動停止速度不一致，導致鍍出的膜層厚度明顯不均，可能是設備原因也可能是人為操作失誤�！　〗鉀Q方式：應避免主觀失誤，同時定期檢查傳動有無異常�！　。�3）均勻性太差導致某一層或某幾層膜疊加后出現膜厚不均而產生條狀色差暗道�！　〗鉀Q方式：一般需要對某一層膜的整體均勻性進行調節，必要時對影響這一層的陰較磁場均勻性進行調整，使每一膜層膜的膜厚達到均勻。
離線鍍膜玻璃缺點——暗道

【中玻網】暗道是指從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區域，可見程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。　　暗道的產生的原因及解決方式如下：　�。�1）由于鍍膜時其中一個或多個陰較產生電弧或跳閘引起�！　〗鉀Q方式：避免電弧和保證電源、陰較正常工作，防止暗道的產生�！　。�2）傳動問題。指的是在生產中傳動停止速度不一致，導致鍍出的膜層厚度明顯不均，可能是設備原因也可能是人為操作失誤�！　〗鉀Q方式：應避免主觀失誤，同時定期檢查傳動有無異常�！　。�3）均勻性太差導致某一層或某幾層膜疊加后出現膜厚不均而產生條狀色差暗道。　　解決方式：一般需要對某一層膜的整體均勻性進行調節，必要時對影響這一層的陰較磁場均勻性進行調整，使每一膜層膜的膜厚達到均勻。
離線鍍膜玻璃常見缺點——斑紋

【中玻網】斑紋：從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面色澤發生的云狀、放射狀或條紋狀缺點。斑紋的形成有以下三個主要原因，針對不同原因有不同的解決方案�！　�1.云狀斑紋：主要是由于原片新鮮度不夠，Na+外滲，也就是通常所說的發霉。雖然經過鋼化處理，但無法完全清除，故形成云霧狀斑紋，其解決方法除了確保使用新鮮原片外，對過期原片(過期時間不太長)，可采用拋光粉進行拋光處理，再進行鍍膜，可以提高玻璃與膜層的結合力從而減少斑紋的產生。當然原片過期時間過長，拋光粉的使用也是無效的�！　�2.放射狀斑紋：主要是由于清洗機風刀未吹干凈，進行鍍膜時會出現放射狀斑紋。其解決方法為調整風刀角度，并保證風刀內無異物�！　�3.條紋狀斑紋：主要是由于鍍膜機內局部氣壓發生變化引起的，尤其是入、出口室漏氣等，由于引起局部氣壓發生變化的區域廣泛，只有依靠各生產廠家自己的經驗及相關設備進行檢漏，排除后方可正常生產。
二氧化鈦在離線鍍膜玻璃保護方面的應用

【中玻網】采用磁控濺射工藝生產的離線鍍膜玻璃，由于其顏色豐富、性能優良等特點，已經在建筑領域得到了廣泛的應用。磁控濺射鍍膜屬于軟鍍膜，尤其是含有銀材料的高性能Low-E鍍膜產品，膜層軟且不耐加工，在鍍膜基片的儲運。再加工過程中，如有操作不慎則容易導致膜層提前損壞，包括膜層劃傷、氧化、耐加工能力變差等情況，導致經濟損失。因此，合理改善鍍膜玻璃的膜層保護來提升耐加工性依然是廣大生產技術人員共同探尋的課題。　　目前市場上的鍍膜玻璃膜層主要有以下幾種：（1）PE保護膜，應用廣泛。PE保護膜以特殊聚乙烯塑料薄膜為基材，用來貼在鍍膜玻璃的膜面一側，起到保護膜層減少外部影響的作用，是早期玻璃深加工企業中廣泛使用的方式之一，目前使用這種方式保護鍍膜玻璃的情況越來越少。（2）水溶性材料保護膜，成膜前為一種半透明粘稠狀液體，成分包括聚乙烯醇、酯化聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮等，一般采用向鍍膜玻璃膜面噴涂的方式并烘干成膜，成膜后可以提高產品耐摩擦、抗劃傷能力，制作容易，純凈。但是在后續深加工過程中經過清洗機清洗后，保護膜隨即消失，因此，這種方式的保護膜在大面積鍍膜玻璃的深加工企業中沒有被廣泛應用。（3）類金剛石
無銀離線低輻射鍍膜玻璃的開發

【中玻網】1、引言　　目前，低輻射鍍膜玻璃的生產方法主要有兩種。一種是在線鍍膜，一般指在浮法玻璃生產過程中，在溫度較高的玻璃表面按一定配比噴涂某些化學試劑，使玻璃表面形成具有一定低輻射功能的化合物薄膜，具有較好的的物理化學性能，因此較為適合在民用市場推廣。另一種是離線鍍膜，一般指將輻射率較低的銀或其他金屬化合物按一定比例通過真空磁控濺射的方式將其鍍在玻璃表面。在線鍍膜玻璃受其工藝影響，光學及熱學性能相對于離線低輻射鍍膜玻璃要差很多，且顏色及遮陽性能較難控制，顏色單一，所以不如離線鍍膜使用廣泛。　　2、背景　　離線鍍膜工藝生產的低輻射玻璃主要有兩種加工方式：一種是先鋼化后鍍膜，另一種使先鍍膜后鋼化的可鋼化低輻射產品。在傳統的低輻射玻璃加工過程中，為了能實現較好的U值和選擇系數LSG(光熱比)，就必須增加膜層中的銀層厚度來降低玻璃膜層的輻射率，以得到理想的選擇系數。由于銀易被空氣中的二氧化硫氧化，所以必須鍍膜后立即合成中空玻璃使用�！　≡黾鱼y層厚度就意味著可見光透過率降低、外觀顏色呈現干擾色，影響玻璃的使用。而市場上所推廣的可鋼化低輻射鍍膜產品，因采用先鍍膜后鋼化的加工方式，在后續加工過程
秦皇島榮科離線鍍膜玻璃6月14日網上報價

產品名稱規格價格包裝等級銀灰鍍膜玻璃5mm28元/平方米木箱一等品銀灰鍍膜玻璃6mm32元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃4mm26.3元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃5mm29元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃6mm33元/平方米木箱一等品茶色鍍膜玻璃8mm39.6元/平方米木箱一等品翡翠綠鍍膜玻璃5mm32元/平方米木箱一等品翡翠綠鍍膜玻璃6mm36元/平方米木箱一等品F綠鍍膜玻璃5mm32元/平方米木箱一等品F綠鍍膜玻璃6mm36元/平方米木箱一等品寶石藍鍍膜玻璃5mm35元/平方米木箱一等品該報價由：秦皇島榮科玻璃有限公司提供商鋪地址：秦皇島榮科玻璃有限公司
離線Low-E玻璃鍍膜質量控制

　　Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，具有良好的節能效果和光學性能。真空磁控濺射法(PVD)也稱離線法，可以實現復雜膜系Low-E玻璃的大規模量產，成為近年來Low-E玻璃的主流生產工藝。　　相比傳統的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數多也更薄，特別是近年來雙銀/三銀Low-E玻璃的推廣，有的產品需要沉積多達20多層不同材料的薄膜，這就對每層薄膜的質量和均勻性提出了非常苛刻的要求。如果不能很好的控制單層薄膜的質量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學不均勻性就會非常明顯。因此對現有的PVD鍍膜工藝來說，提高鍍膜的質量和均勻性是一個非常關鍵的課題。　　1工藝氣體布氣均勻性　　作為膜層均勻性控制的主要手段之一，工藝氣體布氣均勻性非常重要。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：　　1)布氣管路分為主管和輔管，主管由3個質量流量計分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據陰較寬度分為3～7段，每段由一個質量流量計單獨控制工藝氣體流量
離線鍍膜玻璃與在線鍍膜玻璃的區別

【中玻網】1.產品檔次和引進歷史　　　　離線鍍膜玻璃是在真空磁控濺射鍍膜玻璃生產線上，將金屬、金屬化合物根據使用性能的不同（隔熱性、顏色、反光率等），組合成多層薄膜而構成的，一般鍍膜層由2-3層薄膜組成，并可根據需要配置膜層產生不同的顏色。這種生產工藝決定了在其產品的高性能和多顏色選擇性，因此屬于高等產品。在線鍍膜玻璃是在浮法玻璃生產過程中，在熱玻璃的表面上噴涂Sn的化學溶液或粉末，形成土灰色的單層化合物薄膜而制成的。產品多以有色玻璃為基片，顏色主要靠有色玻璃本身的顏色決定的。這種生產工藝決定了在線鍍膜玻璃的性能較差和低檔產品的屬性�！　　　〖热辉诰€鍍膜是低檔產品，我國為何還會發展呢？　　　　上世紀80年代中期，我國在引進鍍膜玻璃生產技術時曾對國外鍍膜玻璃的生產工藝、產品檔次和市場發展趨勢作了詳細的調研，調研結果顯示：在線鍍膜玻璃的市場份額年增長率僅為約20%，而離線鍍膜玻璃的市場份額年增長率則接近120%。調研結果還反映了這兩種產品的用戶群體不同，在線鍍膜產品主要面向民用住宅和小型公建項目，大型公建項目較少采用，而離線鍍膜產品則主要用于公共建筑項目。此項調研結果確定了我國的引進政策，
離線鍍膜玻璃常見缺點及解決對策

【中玻網】1引言　　　　隨著人們審美觀及對環保節能的不斷提高，離線鍍膜玻璃越來越廣泛地應用到幕墻及民用住宅上。本文就離線鍍膜玻璃生產過程中出現的常見缺點作了分析，結合實際生產經驗，針對其缺點找出相應對策�！　　　‰x線磁控濺射鍍膜玻璃可分為陽光控制鍍膜玻璃（solarcontrol coated glass）和低輻射鍍膜玻璃（Low-Eglass）兩大類。此兩大類產品在實際生產過程中，其缺點比例各不相同，下面針對這兩大類產品分別闡述其缺點及解決對策�！　　　�2陽光控制膜玻璃常見缺點及解決辦法　　　　陽光控制鍍膜玻璃（solar controlcoated glass）是指對波長范圍在350~1800nm的太陽光具有一定控制作用的鍍膜玻璃，常見缺點為小孔和斑點。小孔（pinhole）：從鍍膜玻璃透射方向看，相對膜層整體可視透明部分或全部沒有附著膜層的點狀缺點；斑點（spot）：從鍍膜玻璃的透射方向看，相對膜層整體色澤較暗的點狀缺點。國標GB/T18915.1~18915.2-2002對小孔及斑點等缺點的要求見表1。　�。�1）小孔、斑點的形成及其相應的解決對策如下：　　　　①真空度不
提高離線Low-E玻璃鍍膜質量的方法

【中玻網】Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，具有良好的節能效果和光學性能。真空磁控濺射法（PVD）也稱離線法，可以實現復雜膜系Low-E玻璃的大規模量產，成為近年來Low-E玻璃的主流生產工藝。　　　　相比傳統的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數多也更薄，特別是近年來雙銀／三銀Low-E玻璃的推廣，有的產品需要沉積多達20多層不同材料的薄膜，這就對每層薄膜的質量和均勻性提出了非�？量痰囊蟆Ｈ绻荒芎芎玫目刂茊螌颖∧さ馁|量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學不均勻性就會非常明顯。因此對現有的PVD鍍膜工藝來說，提高鍍膜的質量和均勻性是一個非常關鍵的課題�！　　　。惫に嚉怏w布氣均勻性　　　　作為膜層均勻性控制的主要手段之一，工藝氣體布氣均勻性非常重要。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：　　　�。保┎細夤苈贩譃橹鞴芎洼o管，主管由3個質量流量計分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據陰較寬度分為3～7段，每段由一個質量流量計單獨控制工藝氣
淺談：離線雙銀Low-E鍍膜玻璃膜系開發

【中玻網】1、技術背景真空（詞條“真空”由行業大百科提供）磁控濺射鍍膜技術是通過真空磁控濺射鍍膜機實現的，鍍膜機內由不同級別的真空泵抽氣，在系統內營造出一個鍍膜所需的真空環境，真空度要達到Low-E鍍膜所需的本底真空，一般在(1~5)×10-8Pa。在真空環境中向靶材(陰較（詞條“陰較”由行業大百科提供）)下充入工藝氣體氬氣(Ar)，氬氣在外加電場(由直流或交流電源產生)作用下發生電離生成氬離子(Ar+)，同時在電場E的作用下，氬離子加速飛向陰較靶并以高能量轟擊靶表面，使靶材產生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子(或分子)沉積在玻璃基片上形成薄膜。同時被濺射出的二次電子在陰較暗區被加速，在飛向基片的過程中，落入設定的正交電磁場的電子阱中，直接被磁場的洛倫茲力束縛，使其在磁場B的洛倫茲力作用下，以旋輪線和螺旋線的復合形式在靶表面附近作回旋運動。電子e的運動被電磁場束縛在靠近靶表面的等離子區域內，使其到達陽較前的行程大大增長，大大增加碰撞電離幾率，使得該區域內氣體原子的離化率增加，轟擊靶材的高能Ar+離子增多，從而實現了磁控濺射
離線雙銀Low-E鍍膜玻璃膜系開發淺談

【中玻網】0引言　　　　目前國內使用的Low-E鍍膜玻璃產品主要是單銀Low-E鍍膜玻璃，只有少數幾家玻璃加工企業可以生產雙銀Low-E鍍膜玻璃（以下簡稱雙銀Low-E），且具有較成熟的生產技術，而這幾家玻璃企業所生產的雙銀Low-E多為自產自用。隨著國家建筑節能要求的不斷提升，建筑節能性能更高的雙銀Low-E的需求量也在不斷提高。目前國內Low-E玻璃市場中，雙銀Low-E使用量不到單銀Low-E使用量的10％。限制雙銀Low-E推廣和使用的原因主要有兩點：一是雙銀Low-E鍍膜玻璃工藝技術難度非常大，生產技術整體不夠成熟；二是雙銀Low-E市場價格較高。所以，只有了解雙銀Low-E膜系的開發過程，解決雙銀Low-E在生產中的關鍵技術問題，實現雙銀Low-E鍍膜玻璃的產品質量和產量的穩定，才能夠使這種節能性能更高的產品的成本降低，并得到更廣泛的推廣和使用。本文即通過雙銀Low-E膜系開發過程的分析，明確了在雙銀Low-E鍍膜玻璃膜系的開發過程中應注意的問題，并從實際生產的角度提出了一些對于雙銀Low-E膜系開發的建議�！　　　�1技術背景　　　　真空磁控濺射鍍膜技術是通過真空磁控濺射鍍